Ni−Pめっきは無電解ニッケルめっきの中で最も多く使われているものであり、以下の様な特徴をもっている。

1. めっき膜は代表的には7〜9%のリンを含むNi−P合金（中リン）であるが、リンの含有量によって低リン、高リンの3種類に分類できる。表−2に無電解Ni−Pめっきのリン含量とめっきの性質について示す。
2. 電気ニッケルめっきに比べて延性に乏しく硬い。中リンタイプだとHv500〜600程度だが、熱処理を施すとHv900に達する。硬さに伴い耐磨耗性に優れる。
3. 電気めっきと違い電流分布の問題が無いので、めっき厚さは均一である。
4. リン含量の高いNi−Pは非磁性である。
5. ハンダ付け、ボンディングが出来る。

上記の様な特長をもつ無電解Ni−Pめっきは様々な分野で利用されている。各分野での応用例を表−3に示す。
標準的なNi−Pめっきの速度は温度90℃で10〜25μm/h程度である。浴の温度とpHはめっき速度に大きく影響し、pHが高いほど、温度が高いほどめっき速度は速くなる。しかしいずれも高すぎると浴の分解反応を誘発しやすくなる。無電解ニッケルめっきの反応は、品物をめっき液に浸漬した瞬間から触媒金属（Fe、Ni、Co、Pt、Pdなど）を介してスタートし以後自己触媒反応を繰り返す。反応が進行するにつれ、ニッケルイオンと次亜リン酸塩濃度が下がり、pHが低下するので、硫酸ニッケル、次亜リン酸ソーダ及び苛性ソーダを補給する必要がある。無電解Ni−P浴では、反応の進行につれ硫酸ソーダと次亜リン酸ソーダの反応生成物である亜リン酸ソーダが蓄積して浴が老化する。浴が老化すると光沢の低下、めっき速度の低下、応力増加などの悪影響を及ぼすことになる。通常は5〜6ターンの経過で全更新または部分更新を行う。