硫酸浴

表面処理

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≪ 工程 ≫

錫及び錫合金メッキ
タイトル  メーカー  概要  用途 
NB-RZS 石原ケミカル 中性Snめっき特にチップコンデンサ等素材への浸食問題が極めて少なく、また低発泡タイプですので高速回転式装置に最適です。 チップ用
NB-RZ 石原ケミカル 中性Snめっき特にチップコンデンサ等素材への浸食問題が極めて少なく、均一電着性に優れています。 チップ用
NB-ZZ 石原ケミカル 中性Snめっき管理範囲が広く、浴管理が容易です。特に耐食性、はんだ濡れ性に優れています。抵抗器など、高速性が求められるチップに最適です。 チップ用
BTC-100 石原ケミカル Sn-Cuめっきバレル、ラック用光沢めっきプロセス。特に耐食性、はんだ濡れ性に優れています。広い電流密度にて使用可能で、液安定性に優れています。 コネクタ用
HTC-528 石原ケミカル Sn-Cuめっき中高速用光沢めっきプロセス。特に耐食性、はんだ濡れ性に優れています。不純物への影響が小さく、液安定性に優れています。 コネクタ用
HTC-516 石原ケミカル Sn-Cuめっきバレル、ラック用半光沢めっきプロセス。特に耐食性、はんだ濡れ性に優れています。 一般用
HTC-603 石原ケミカル Sn-Cuめっき中高速用半光沢めっきプロセス。特に耐食性、はんだ濡れ性に優れています。 IC用
BTS-004 石原ケミカル Sn-Agめっきバレル用半光沢めっきプロセス。特に耐食性、はんだ濡れ性及び液安定性に優れています。
MTS-554 石原ケミカル Sn-Agめっき中高速用半光沢めっきプロセス。特に耐食性、はんだ濡れ性及び液安定性に優れています。 IC用
PF-081S 石原ケミカル Snめっきフープ、ワイヤー用光沢めっきプロセス。特に耐食性、はんだ濡れ性に優れています。広い電流密度にて使用可能で、液安定性に優れています... 一般用
T-020 石原ケミカル Snめっきバレル、ラック用硫酸光沢めっきプロセス。特に耐食性、はんだ濡れ性および外観安定性に優れています。※変色防止剤501SNを後処理剤に使用... 一般用
PF-055S 石原ケミカル Snめっきバレル、ラック用半光沢めっきプロセス。特に耐食性、はんだ濡れ性、ウィスカ抑制に優れています。不純物への影響が小さく、液安定性に優... 一般用
PF-077S 石原ケミカル Snめっき中高速用半光沢めっきプロセス。特に耐食性、はんだ濡れ性、ウィスカ抑制に優れています。リフロー外観にも優れています。※変色防止剤501S... コネクタ用
PF-098S 石原ケミカル Snめっき中高速用半光沢めっきプロセス。特に耐食性、はんだ濡れ性、ウィスカ抑制に優れています。不純物への影響が小さく、液安定性に優れていま... IC用
HTB-005 石原ケミカル Sn-Biめっき中高速用光沢めっきプロセス。特にはんだ濡れ性、ウィスカ抑制に優れています。 一般用
BTB-001 石原ケミカル Sn-Biめっきバレル、ラック用光沢めっきプロセス。特にはんだ濡れ性、ウィスカ抑制に優れています。 一般用
PF-05SH 石原ケミカル Sn-Biめっき中高速用半光沢めっきプロセス。特に耐食性、はんだ濡れ性、ウィスカ抑制に優れています。 IC用
PF-05M 石原ケミカル Sn-Biめっき中高速用半光沢めっきプロセス。特に耐食性、はんだ濡れ性、ウィスカ抑制に優れています。広い電流密度にて使用可能で、バレル、ラック... IC用
タイトル  メーカー  概要  用途 
UTB MX-M06005-571D0 石原ケミカル Sn-Pbめっき高融点めっきタイプです。 ウェハバンプ用
UTB MX-M03069-574A1 石原ケミカル Sn-Pbめっき共晶めっきタイプです。 ウェハバンプ用
UTB TS-202 石原ケミカル Sn-AgめっきPbフリー対応浴、高速めっきタイプです。 ウェハバンプ用
UTB TS-140 石原ケミカル Sn-AgめっきPbフリー対応浴です。 ウェハバンプ用
タイトル  メーカー  概要  用途 
LPプロセス 石原ケミカル 基板用無電解Pdめっき低リンタイプ。はんだ付け性、接触抵抗等に優れています。
APPプロセス 石原ケミカル 基板用無電解Pdめっき中リンタイプ。密着性に優れ均一な外観を得られます。
580M-Jシリーズ 石原ケミカル 厚付け用無電解Snめっき置換タイプであるが約3μm程度の平滑な皮膜が得られます。 FPC、PCB用
580M-Zシリーズ 石原ケミカル COF用無電解Snめっきノン弗化タイプであり、疑似ウィスカ、フリルなど異常析出対策に最適です。 TAB、COF用
タイトル  メーカー  概要  用途 
W-10プロセス 石原ケミカル ウェハ用Cuめっき応力が小さく、均一な光沢外観が得られます。 再配線用
タイトル  メーカー  概要  用途 
NSシリーズ 石原ケミカル 下地Ni、表面Snめっき処理済。各径取り揃えております。 バレルめっき用ダミーボール
SB、FL、512K 石原ケミカル 電気Sn系めっき液の濁りおよび4価すず除去用沈降剤です。 沈降処理剤
Au-111B 石原ケミカル 浸漬タイプ、水溶性で液安定性に優れています。 金封孔処理剤
501SN 石原ケミカル 熱処理後の変色防止に優れています。 Sn、Sn合金用変色防止剤
STRIP SOLDER-S 石原ケミカル 原液使用の弱酸性タイプ、特に銅合金上に最適です。 Sn、はんだ製品剥離用(再生用)剥離剤
STRIP SOLDER-A 石原ケミカル アルカリタイプ、特に42合金、鉄系に最適です。 Sn、はんだ製品剥離用(再生用)剥離剤
STRIP SOLDER-C 石原ケミカル 硝酸タイプのため、剥離速度が速く、低コストです。 Sn、はんだ製品剥離用(再生用)剥離剤
STRIP SOLDER-M 石原ケミカル スラッジの発生が極めて少なく、長い液寿命を有します。 Sn、はんだ製品剥離用(再生用)剥離剤
SPF-21 石原ケミカル 原液使用、銅合金上のすず及びすず合金(Sn-Bi等)めっきの剥離剤です。 鉛フリー製品剥離用(再生用)剥離剤
SPF-11 石原ケミカル 原液使用、42アロイ上のすず及びすず合金(Sn-Bi等)めっきの剥離剤です。 鉛フリー製品剥離用(再生用)剥離剤
SPF-171 石原ケミカル 電解タイプ、すず及びすず合金(Sn-Bi)めっきの剥離剤です。 ジグ、ベルト用 剥離剤
SPF-02 石原ケミカル 浸漬タイプ、すず及びすず合金(Sn-Bi)めっきの剥離剤です。 ジグ、ベルト用 剥離剤
UTB 513Y法による半光沢スズおよびハンダメッキ UTB A法による半光沢スズおよびハンダめっきは、現在、それほど光沢を要しない部品(IC、トランジスター半導体等、均一電着性、被覆性を要求される...
タイトル  メーカー  概要  用途 
メタスFCM-25 ユケン工業 無光沢合金めっき浴用錫−銅めっきの無光沢用添加剤、幅広い電流密度で使用できます。 合金 回転 静... ラック用 半導体外装めっきに最適
メタスFCM-22 ユケン工業 無光沢合金めっき浴用錫−銅めっきの無光沢用添加剤、幅広い電流密度で使用できます。 合金 回転 静... ラックレス用 半導体外装めっきに最適
タイトル  メーカー  概要  用途 
メタスFCB-71 ユケン工業 光沢合金めっき浴用錫−銅めっきの光沢用添加剤、安定した光沢外観が得られます。※YWLシステムに対応します。 合金 ... リールtoリール用 万能タイプ
メタスPKC-71 ユケン工業 光沢合金めっき浴用錫−銅めっきの光沢用添加剤、フレキシブル基板用めっきに最適です。 合金 回転 ... FPC向け
メタスFCB-55 ユケン工業 光沢合金めっき浴用錫−銅めっきの光沢用添加剤、安定した光沢外観が得られます。※YWLシステムに対応します。 合金 ... リールtoリール用 光沢性に優れる
タイトル  メーカー  概要  用途 
スタノリューム161
スズメッキ スズは古くから重要な金属材料で、合金では青銅、はんだ等、また鉄板上の錫めっきではブリキがよく知られている。スズは融点が低く(231.9℃)極めて...
NSシリーズ 石原ケミカル 下地Ni、表面Snめっき処理済。各径取り揃えております。 バレルめっき用ダミーボール
SB、FL、512K 石原ケミカル 電気Sn系めっき液の濁りおよび4価すず除去用沈降剤です。 沈降処理剤
Au-111B 石原ケミカル 浸漬タイプ、水溶性で液安定性に優れています。 金封孔処理剤
501SN 石原ケミカル 熱処理後の変色防止に優れています。 Sn、Sn合金用変色防止剤
STRIP SOLDER-S 石原ケミカル 原液使用の弱酸性タイプ、特に銅合金上に最適です。 Sn、はんだ製品剥離用(再生用)剥離剤
STRIP SOLDER-A 石原ケミカル アルカリタイプ、特に42合金、鉄系に最適です。 Sn、はんだ製品剥離用(再生用)剥離剤
STRIP SOLDER-C 石原ケミカル 硝酸タイプのため、剥離速度が速く、低コストです。 Sn、はんだ製品剥離用(再生用)剥離剤
STRIP SOLDER-M 石原ケミカル スラッジの発生が極めて少なく、長い液寿命を有します。 Sn、はんだ製品剥離用(再生用)剥離剤
SPF-21 石原ケミカル 原液使用、銅合金上のすず及びすず合金(Sn-Bi等)めっきの剥離剤です。 鉛フリー製品剥離用(再生用)剥離剤
SPF-11 石原ケミカル 原液使用、42アロイ上のすず及びすず合金(Sn-Bi等)めっきの剥離剤です。 鉛フリー製品剥離用(再生用)剥離剤
SPF-171 石原ケミカル 電解タイプ、すず及びすず合金(Sn-Bi)めっきの剥離剤です。 ジグ、ベルト用 剥離剤
SPF-02 石原ケミカル 浸漬タイプ、すず及びすず合金(Sn-Bi)めっきの剥離剤です。 ジグ、ベルト用 剥離剤
W-10プロセス 石原ケミカル ウェハ用Cuめっき応力が小さく、均一な光沢外観が得られます。 再配線用
LPプロセス 石原ケミカル 基板用無電解Pdめっき低リンタイプ。はんだ付け性、接触抵抗等に優れています。
APPプロセス 石原ケミカル 基板用無電解Pdめっき中リンタイプ。密着性に優れ均一な外観を得られます。
580M-Jシリーズ 石原ケミカル 厚付け用無電解Snめっき置換タイプであるが約3μm程度の平滑な皮膜が得られます。 FPC、PCB用
580M-Zシリーズ 石原ケミカル COF用無電解Snめっきノン弗化タイプであり、疑似ウィスカ、フリルなど異常析出対策に最適です。 TAB、COF用
UTB MX-M06005-571D0 石原ケミカル Sn-Pbめっき高融点めっきタイプです。 ウェハバンプ用
UTB MX-M03069-574A1 石原ケミカル Sn-Pbめっき共晶めっきタイプです。 ウェハバンプ用
UTB TS-202 石原ケミカル Sn-AgめっきPbフリー対応浴、高速めっきタイプです。 ウェハバンプ用
UTB TS-140 石原ケミカル Sn-AgめっきPbフリー対応浴です。 ウェハバンプ用
NB-RZS 石原ケミカル 中性Snめっき特にチップコンデンサ等素材への浸食問題が極めて少なく、また低発泡タイプですので高速回転式装置に最適です。 チップ用
NB-RZ 石原ケミカル 中性Snめっき特にチップコンデンサ等素材への浸食問題が極めて少なく、均一電着性に優れています。 チップ用
NB-ZZ 石原ケミカル 中性Snめっき管理範囲が広く、浴管理が容易です。特に耐食性、はんだ濡れ性に優れています。抵抗器など、高速性が求められるチップに最適です。 チップ用
BTC-100 石原ケミカル Sn-Cuめっきバレル、ラック用光沢めっきプロセス。特に耐食性、はんだ濡れ性に優れています。広い電流密度にて使用可能で、液安定性に優れています。 コネクタ用
HTC-528 石原ケミカル Sn-Cuめっき中高速用光沢めっきプロセス。特に耐食性、はんだ濡れ性に優れています。不純物への影響が小さく、液安定性に優れています。 コネクタ用
HTC-516 石原ケミカル Sn-Cuめっきバレル、ラック用半光沢めっきプロセス。特に耐食性、はんだ濡れ性に優れています。 一般用
HTC-603 石原ケミカル Sn-Cuめっき中高速用半光沢めっきプロセス。特に耐食性、はんだ濡れ性に優れています。 IC用
BTS-004 石原ケミカル Sn-Agめっきバレル用半光沢めっきプロセス。特に耐食性、はんだ濡れ性及び液安定性に優れています。
MTS-554 石原ケミカル Sn-Agめっき中高速用半光沢めっきプロセス。特に耐食性、はんだ濡れ性及び液安定性に優れています。 IC用
PF-081S 石原ケミカル Snめっきフープ、ワイヤー用光沢めっきプロセス。特に耐食性、はんだ濡れ性に優れています。広い電流密度にて使用可能で、液安定性に優れています... 一般用
T-020 石原ケミカル Snめっきバレル、ラック用硫酸光沢めっきプロセス。特に耐食性、はんだ濡れ性および外観安定性に優れています。※変色防止剤501SNを後処理剤に使用... 一般用
PF-055S 石原ケミカル Snめっきバレル、ラック用半光沢めっきプロセス。特に耐食性、はんだ濡れ性、ウィスカ抑制に優れています。不純物への影響が小さく、液安定性に優... 一般用
PF-077S 石原ケミカル Snめっき中高速用半光沢めっきプロセス。特に耐食性、はんだ濡れ性、ウィスカ抑制に優れています。リフロー外観にも優れています。※変色防止剤501S... コネクタ用
PF-098S 石原ケミカル Snめっき中高速用半光沢めっきプロセス。特に耐食性、はんだ濡れ性、ウィスカ抑制に優れています。不純物への影響が小さく、液安定性に優れていま... IC用
HTB-005 石原ケミカル Sn-Biめっき中高速用光沢めっきプロセス。特にはんだ濡れ性、ウィスカ抑制に優れています。 一般用
BTB-001 石原ケミカル Sn-Biめっきバレル、ラック用光沢めっきプロセス。特にはんだ濡れ性、ウィスカ抑制に優れています。 一般用
PF-05SH 石原ケミカル Sn-Biめっき中高速用半光沢めっきプロセス。特に耐食性、はんだ濡れ性、ウィスカ抑制に優れています。 IC用
PF-05M 石原ケミカル Sn-Biめっき中高速用半光沢めっきプロセス。特に耐食性、はんだ濡れ性、ウィスカ抑制に優れています。広い電流密度にて使用可能で、バレル、ラック... IC用
メタスFCB-71 ユケン工業 光沢合金めっき浴用錫−銅めっきの光沢用添加剤、安定した光沢外観が得られます。※YWLシステムに対応します。 合金 ... リールtoリール用 万能タイプ
メタスPKC-71 ユケン工業 光沢合金めっき浴用錫−銅めっきの光沢用添加剤、フレキシブル基板用めっきに最適です。 合金 回転 ... FPC向け
メタスFCB-55 ユケン工業 光沢合金めっき浴用錫−銅めっきの光沢用添加剤、安定した光沢外観が得られます。※YWLシステムに対応します。 合金 ... リールtoリール用 光沢性に優れる
メタスFCM-25 ユケン工業 無光沢合金めっき浴用錫−銅めっきの無光沢用添加剤、幅広い電流密度で使用できます。 合金 回転 静... ラック用 半導体外装めっきに最適
メタスFCM-22 ユケン工業 無光沢合金めっき浴用錫−銅めっきの無光沢用添加剤、幅広い電流密度で使用できます。 合金 回転 静... ラックレス用 半導体外装めっきに最適
UTB 513Y法による半光沢スズおよびハンダメッキ UTB A法による半光沢スズおよびハンダめっきは、現在、それほど光沢を要しない部品(IC、トランジスター半導体等、均一電着性、被覆性を要求される...
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表面処理の三明化成

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